特許

J-GLOBAL ID：200903010721624871

ポジ型フォトレジスト組成物

発明者： 河辺 保雅 ,  石井 渡
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (1件)： 萩野 平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-277915
公開番号（公開出願番号）：特開平8-137100
出願日： 1994年11月11日
公開日（公表日）： 1996年05月31日
要約：

【要約】【目的】 安全性に優れ、塗れ残り、ストリエーション等の故障の無い、塗布性能に優れた、更に、溶液の保存安定性が優れ、保存中に感光剤の微粒子の析出や分解等が起きず、しかも、耐熱性に優れたポジ型フォトレジスト用組成物を提供することにある。【構成】 (a)アルカリ可溶性樹脂、(b)1,2-ナフトキノンジアジド-4-(又は/及び-5-)-スルホン酸エステル、及び(c)プロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネートを含有する。

請求項（抜粋）：

(a)アルカリ可溶性樹脂、(b)1,2-ナフトキノンジアジド-4-(又は/及び-5-)-スルホン酸エステル、及び(c)プロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネートを含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

IPC (2件)：

G03F 7/022 ,  H01L 21/027