フォトレジスト用高分子化合物及びフォトレジスト用樹脂組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-043161
公開番号（公開出願番号）：特開2002-241442
出願日： 2001年02月20日
公開日（公表日）： 2002年08月28日
要約：

【要約】【課題】均質性に優れ、解像度の高い微細パターンを得ることのできるフォトレジスト用樹脂を得る。【解決手段】下記一般式(1a)及び(1b)【化1】(式中、R1は水素原子又はメチル基を示す。Ra及びRbは、同一又は異なって、炭素数1〜8の炭化水素基を示し、Rc、Rd及びRe は、同一又は異なって、水素原子又はメチル基を示す。Xa、Xb及びXcは、同一又は異なって、-CH2-、又は-CO-O-を示す。但し、Xa、Xb及びXcのうち少なくとも1つは-CO-O-である。)で表される化合物をモノマーとして使用するフォトレジスト樹脂を提供する。

請求項（抜粋）：

下記一般式(1a)及び(1b)【化1】(式中、R1は水素原子又はメチル基を示す。Ra及びRbは、同一又は異なって、炭素数1〜8の炭化水素基を示し、Rc、Rd及びRe は、同一又は異なって、水素原子又はメチル基を示す。Xa、Xb及びXcは、同一又は異なって、-CH2-、又は-CO-O-を示す。但し、Xa、Xb及びXcのうち少なくとも1つは-CO-O-である。)で表される化合物。

IPC (8件)：

C08F220/26 , C08F222/06 , C08F232/00 , C08K 5/00 , C08L 33/14 , C08L 35/00 , C08L 45/00 , G03F 7/039 601

FI (8件)：

C08F220/26 , C08F222/06 , C08F232/00 , C08K 5/00 , C08L 33/14 , C08L 35/00 , C08L 45/00 , G03F 7/039 601

Fターム (45件)：

2H025AA02 , 2H025AA08 , 2H025AA14 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB08 , 2H025CB10 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025CB45 , 2H025CB52 , 2H025FA17 , 4J002BG071 , 4J002BH021 , 4J002BK001 , 4J002EB116 , 4J002EE056 , 4J002EQ016 , 4J002EU186 , 4J002EV216 , 4J002EV246 , 4J002EV296 , 4J002EV326 , 4J002FD206 , 4J002GP03 , 4J100AK32R , 4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AR11Q , 4J100BA03Q , 4J100BA03R , 4J100BA11P , 4J100BA20Q , 4J100BC09Q , 4J100BC09R , 4J100BC53P , 4J100CA04 , 4J100CA05 , 4J100JA38

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