特許

J-GLOBAL ID：200903010724112626

光導波膜の製造方法

発明者： 広瀬 智財 ,  金森 弘雄 ,  浦野 章 ,  相川 晴彦 ,  石川 真二 ,  斉藤 真秀
出願人/特許権者： 住友電気工業株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 芳樹 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-063826
公開番号（公開出願番号）：特開平5-264839
出願日： 1992年03月19日
公開日（公表日）： 1993年10月15日
要約：

【要約】【目的】 剥がれにくく、膜厚の面内均一性が良い光導波膜を製造する方法を提供することを目的とする。【構成】 予め熱酸化処理が行われた直径2インチのシリコン基板11が台12上に載置される。火炎バーナ13の口径はシリコン基板11の直径より大きい3インチであり、この火炎バーナ13は固定されている。基板表面へのガラス微粒子の堆積は、この状態において、シリコン基板11が火炎バーナ13の方向に1回だけ移動させられることにより行われ、1堆積層が形成される。

請求項（抜粋）：

基板上に火炎バーナから原料を吹き付け、前記基板上に原料を堆積し、これを焼結して光導波膜を形成する火炎堆積法を用いた光導波膜の製造方法において、前記火炎バーナから前記基板への原料吹き付けは、1堆積層あたり、前記火炎バーナと前記基板との相対位置を1回だけ変化させることにより行われることを特徴とする光導波膜の製造方法。