プラズマ装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：金本哲男 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-209489
公開番号（公開出願番号）：特開平6-037051
出願日： 1992年07月15日
公開日（公表日）： 1994年02月10日
要約：

【要約】【目的】対向する電極間で発生させるプラズマ密度を均一化する。【構成】処理室1内の上部電極11は、絶縁材からなる支持部材15、16によって複数の電極12、13、14に絶縁分割されて構成され、これら電極12、13、14は各々対応する整合器34、35、36を介して接地されている。【効果】整合器34、35、36を調整するだけで、各電極12、13、14の表面電位を個別に変化させてプラズマ密度を均一化することができる。

請求項（抜粋）：

処理室内の上下に対向して電極を設け、高周波電源によってこれら電極間にプラズマを発生させる装置において、上部電極を接地電極、下部電極を電源電極とし、さらに上部電極は複数に絶縁分割され、分割された各電極は夫々その表面電位を調整する調整手段を介して接地されていることを特徴とする、プラズマ装置。

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