特許
J-GLOBAL ID:200903010737575773

ポリ(ブロモメチルフェニレンオキシド)類の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 久保山 隆 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-271536
公開番号(公開出願番号):特開2003-082093
出願日: 2001年09月07日
公開日(公表日): 2003年03月19日
要約:
【要約】【課題】ポリ(ブロモメチルフェニレンオキシド)類を、特殊な装置を用いることなしで、しかも分子量を低下させることなく製造する方法を提供する。【解決手段】溶媒中、ラジカル開始剤の存在下、一般式(1)(式中、nは1乃至2を表す。)で示される繰返し構造を有するポリ(フェニレンオキシド)類にN-ブロモ化合物を作用させることを特徴とする、一般式(2)(式中、nは前記と同じ意味を有し、mはn以下の正の数を表す。)で示される繰返し構造を有するポリ(ブロモメチルフェニレンオキシド)類の製造方法。
請求項(抜粋):
溶媒中、ラジカル開始剤の存在下、一般式(1)(式中、nは1乃至2を表す。)で示される繰返し構造を有するポリ(フェニレンオキシド)類にN-ブロモ化合物を作用させることを特徴とする、一般式(2)(式中、nは前記と同じ意味を有し、mはn以下の正の数を表す。)で示される繰返し構造を有するポリ(ブロモメチルフェニレンオキシド)類の製造方法。
Fターム (2件):
4J005AA26 ,  4J005BD04

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