特許
J-GLOBAL ID：200903010748001140
微細パターン形成装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
西山 恵三
, 内尾 裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-333626
公開番号（公開出願番号）：特開2005-101313
出願日： 2003年09月25日
公開日（公表日）： 2005年04月14日
要約：
【課題】 レジスト上への転写パターンサイズの調整を可能にした微細パターン形成装置を提供すること。【解決手段】 原盤をレジストの塗布された被加工基板に押し付けることにより該被加工基板にパターンを転写する微細パターン形成装置において、前記原盤を前記被加工基板に押し付ける深さを制御する手段を有し、前記原盤の凸パターンの前記被加工基板に先に接する部分の寸法は、後から接する部分の寸法よりも大きくないことを特徴とする構成とした。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
原盤をレジストの塗布された被加工基板に押し付けることにより該被加工基板にパターンを転写する微細パターン形成装置において、
前記原盤を前記被加工基板に押し付ける深さを制御する手段を有し、
前記原盤の凸パターンの前記被加工基板に先に接する部分の寸法は、後から接する部分の寸法よりも大きくないことを特徴とする微細パターン形成装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (2件)：
引用特許：
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