特許

J-GLOBAL ID：200903010751035625

疎水性シリカ微粉末の製造方法

発明者： 野沢 保明 ,  白砂 潔 ,  上原 秀和 ,  松澤 隆行
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (1件)： 小島 隆司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-084891
公開番号（公開出願番号）：特開2001-261327
出願日： 2000年03月24日
公開日（公表日）： 2001年09月26日
要約：

【要約】【解決手段】 シラン化合物を熱分解することにより得られた熱分解法シリカ微粉末を流動層中でオルガノハロシランにより処理して疎水性シリカを製造する方法において、流動槽内のガス流動速度を1.4cm/sec以上3cm/sec以下とすることを特徴とする疎水性シリカ微粉末の製造方法。【効果】 本発明によれば、製造条件の制御が容易な方法でシリカ当り少ないシランの量で目的の処理度が達成できる。廃ガス中の未反応シランが少ないことから、シランの重合による配管の目詰まりが大幅に減少される。また、ガス流動速度が小さいことは流動用のガスが少ないことであり、窒素の使用量を少なく出来、処理シリカのコストが下がるメリットも有する。

請求項（抜粋）：

シラン化合物を熱分解することにより得られた熱分解法シリカ微粉末を流動層中でオルガノハロシランにより処理して疎水性シリカを製造する方法において、流動槽内のガス流動速度を1.4cm/sec以上3cm/sec以下とすることを特徴とする疎水性シリカ微粉末の製造方法。

IPC (2件)：

C01B 33/18 ,  C09C 1/28

FI (2件)：

C01B 33/18 C ,  C09C 1/28

Fターム (12件)：

4G072AA25 ,  4G072BB05 ,  4G072GG03 ,  4G072HH14 ,  4G072HH28 ,  4G072KK17 ,  4G072RR01 ,  4G072RR17 ,  4G072TT05 ,  4J037AA18 ,  4J037CB23 ,  4J037FF25