ハードコンタクト露光装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長澤俊一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-349401
公開番号（公開出願番号）：特開平11-186124
出願日： 1997年12月18日
公開日（公表日）： 1999年07月09日
要約：

【要約】【課題】マスクとワークの密着力を大きくしても、マスクがマスクステージから浮き上がることがないハードコンタクト露光装置を提供すること。【解決手段】マスクMを真空吸着によりマスクステージMSに保持し、ワークWとワークステージWSとマスクステージMSとマスクMと真空シール部6で構成されるシール空間を減圧してマスクMとワークWを密着させ、マスクMを介して露光光を含む光を照射しワークWを露光するハードコンタクト露光装置において、マスクMの面積SMより真空シール部6によって囲まれる面積SWを小さくする。これにより、上記シール空間の圧力VHをマスク吸着用圧力VPに近づけ、マスクMとワークWの密着力を大きくしても、マスクMがマスクステージMSから浮き上がったり外れたりすることがなく、充分なハードコンタクト力を確保することができる。

請求項（抜粋）：

フォトマスクと、その上面側に真空吸着手段が設けられ、フォトマスクを真空吸着により保持するマスクステージと、マスクステージの下面に当接する真空シール部を周辺に備えたワークステージとから構成され、ワークステージにワークを載置してフォトマスクとマスクステージとワークとワークステージと、真空シール部により形成される空間を減圧した状態でフォトマスクを介して露光光を含む光をワークに照射するハードコンタクト露光装置であって、フォトマスクの面積より、上記真空シール部によって囲まれる面積を小さくしたことを特徴とするハードコンタクト露光装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 508 A , G03F 7/20 521

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開昭54-035681
特開平4-027931
特開平4-240715

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