陽極の窓領域が薄いモノリシックシリコン膜により形成される化学線源

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：河上紘範
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-501794
公開番号（公開出願番号）：特表2000-512794
出願日： 1997年06月11日
公開日（公表日）： 2000年09月26日
要約：

【要約】化学線源20は陽極36を備え、これに陰極線銃(24)から放出される電子ビームが衝突する。陽極(36)は、シリコン膜により形成される窓領域(52)を有する。陽極(36)に当った電子ビームは、窓領域(52)を透過して、化学線源(20)の周りの媒体内に貫入する。陽極(36)を製作する方法は、間に腐食停止材料(48)の層が介在する、シリコン材料の薄い第一の層(44)と厚い第二の層(46)を有する基体を用いる。第二の層(46)が腐食停止層まで非等方に腐食され、第一の層(44)に電子ビーム窓領域(52)を画成する。次いで、第二の層(46)が貫通腐食されて露出した、腐食停止層(48)のその部分が除去される。こうして作製された陽極(36)には、基体の第一の層による、薄く、モノリシックで、低応力且つ無欠陥のシリコン膜の電子ビーム領域(52)が設けられる。

請求項（抜粋）：

化学線源であって、排気された陰極線管構造体と該陰極線管構造体に接続され、その第一の端部に位置し、電子ビームを放出できる陰極線銃と上記陰極線管構造体に接続され、該陰極線銃から離れたその第二の端部に位置する陽極とを具備し、上記陽極は薄い、モノリシックな、無欠陥のシリコン膜により形成される窓領域を備え、該窓領域は上記陰極線管構造体上で、上記陰極線銃により放出された電子ビームが、陰極線管構造体内にある真空を通して加速され、且つ上記陽極に当たって、窓領域を透過して陰極線管構造体の周囲の媒体に貫入するように配向されている(向き付けられている)構成の化学線源。

IPC (4件)：

H01J 33/04 , D21H 19/02 , G21G 5/00 , H01J 9/24

FI (4件)：

H01J 33/04 , D21H 19/02 , G21G 5/00 , H01J 9/24 A

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開平2-290081
特開平2-138900
特開平4-076911

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