特許
J-GLOBAL ID：200903010766790853
ガスハイドレートの安定化剤およびそれを用いたガスハイドレートの安定化方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-075884
公開番号（公開出願番号）：特開2000-273475
出願日： 1999年03月19日
公開日（公表日）： 2000年10月03日
要約：
【要約】【課題】本発明はメタンなどの炭化水素ガス、二酸化炭素ガス、あるいは二硫化炭素ガスなどのハイドレートの生成条件を高温、低圧側にシフトさせるガスハイドレートの安定化方法の提供。【解決手段】特定構造の水溶性ポリマーよりなるガスハイドレート安定化剤を、ガスハイドレートが生成可能な系に添加するガスハイドレートの安定化方法。
請求項（抜粋）：
分子内に下記一般式(1)で表わされる構造単位を有する高分子化合物を主体とするガスハイドレートの安定化剤。【化1】(ただし式中、R1、R2およびR3はそれぞれ独立に水素原子または炭素数1もしくは2のアルキル基を表わし、Sp1は、酸素原子、または炭素数1から16の直鎖または分岐アルキル基;カルボニル;エステル;エーテル、カーボネート、チオエステル、アミド、ウレタン、または、窒素原子上の水素原子が炭素数1もしくは2のアルキル基で置換されていても良い窒素含有官能基;エーテル;チオエーテル;尿素、イミン、またはこれらの窒素原子上の水素原子が炭素数1もしくは2のアルキル基で置換されていても良い窒素原子から選択される1種または2種以上の官能基を含有することからなる官能基を表わし、Xは酸素原子もしくは/かつ窒素原子を1個以上含む炭素数3〜10の直鎖もしくは分岐型基、もしくはヘテロ環基を表わし、およびnは1以上の整数を表わす。)
IPC (2件)：
FI (2件)：
C10L 3/00 D
, C01B 31/20 Z
