特許
J-GLOBAL ID:200903010773153044
有機EL素子および有機EL素子の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
上柳 雅誉 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-105997
公開番号(公開出願番号):特開2001-291583
出願日: 2000年04月07日
公開日(公表日): 2001年10月19日
要約:
【要約】【課題】インクジェット法による有機EL素子の製造において、画素内における有機EL膜厚を制御し、均一な有機EL薄膜を形成する。【解決手段】バンク32,33で囲まれた画素領域に、インクジェットヘッド34から、インク組成物35を吐出し、製膜する。次に、前回に吐出したインク組成物35の固形分濃度以下のインク組成物を37を吐出し、画素内に均一な所望膜厚の有機EL薄膜を形成する。
請求項(抜粋):
有機EL材料を含むインク組成物をインク吐出法により同一画素内に少なくとも2回以上吐出して製膜することを特徴とする有機EL素子の製造方法。
IPC (4件):
H05B 33/10
, B05D 7/00
, H05B 33/12
, H05B 33/14
FI (4件):
H05B 33/10
, B05D 7/00 H
, H05B 33/12 B
, H05B 33/14 A
Fターム (15件):
3K007AB04
, 3K007AB17
, 3K007AB18
, 3K007BA06
, 3K007CA01
, 3K007CB01
, 3K007DA01
, 3K007DB03
, 3K007EB00
, 3K007FA01
, 4D075AA04
, 4D075AE15
, 4D075DC24
, 4D075EA07
, 4D075EC11
引用特許:
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