特許

J-GLOBAL ID：200903010774908545

回転式基板処理装置

発明者： 岩見 優樹
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 杉谷 勉
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-081762
公開番号（公開出願番号）：特開平8-250408
出願日： 1995年03月13日
公開日（公表日）： 1996年09月27日
要約：

【要約】【目的】 待機ポット内においてノズルの先端部に蒸気を十分供給し、処理液の乾燥を良好に防止する。【構成】 回転可能に保持された基板に処理液を供給するノズル6を吐出位置と待機位置とに移動可能に設け、待機位置にあるノズル6の先端部を挿入する待機ポット35を設け、その待機ポット35内に液体を溜めるとともに液体中にガス供給管39を通じてガスを供給し、液体の蒸発を促進するとともに、発生した蒸気をノズル6の先端部に供給し、ノズル6の先端部での処理液の乾燥を防止する。

請求項（抜粋）：

基板を回転可能に保持する基板保持手段と、前記基板に処理液を供給するノズルと、そのノズルの先端側を離間可能に囲う待機ポットとを備えた回転式基板処理装置において、液体を溜める液溜容器と、前記液溜容器の液体中にガスを供給するガス供給手段と、を備え、前記液体中を通したガスを前記待機ポット内に供給することを特徴とする回転式基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/16 501 ,  G03F 7/30 501

FI (5件)：

H01L 21/30 514 E ,  B05C 11/08 ,  G03F 7/16 501 ,  G03F 7/30 501 ,  H01L 21/30 541 P