特許

J-GLOBAL ID：200903010797163423

高純度疎水性基含有多糖類およびその製造方法

発明者： 砂本 順三 ,  秋吉 一成 ,  細谷 竜三 ,  福井 洋樹 ,  林 昭男
出願人/特許権者： 日本油脂株式会社 ,  砂本 順三
代理人 (1件)： 柳原 成
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP1999001683
公開番号（公開出願番号）：WO2000-012564
出願日： 1999年03月31日
公開日（公表日）： 2000年03月09日
要約：

【要約】第1段階反応として、炭素数12〜50の水酸基含有炭化水素またはステロールと、OCN-R1-NCO(式中、R1は炭素数1〜50の炭化水素基である。)で表されるジイソシアナート化合物とを反応させて、炭素数12〜50の水酸基含有炭化水素またはステロールが1分子反応したイソシアナート基含有疎水性化合物を製造し、第2段階反応として、前記第1段階反応で得られたイソシアナート基含有疎水性化合物と多糖類とをさらに反応させて、疎水性基として炭素数12〜50の炭化水素基またはステリル基を含有する疎水性基含有多糖類を製造し、 次に第2段階反応の反応生成物をケトン系溶媒で精製することにより、高純度疎水性基含有多糖類を製造する。

請求項（抜粋）：

第1段階反応として、炭素数12〜50の水酸基含有炭化水素またはステロールと、OCN-R1-NCO(式中、R1は炭素数1〜50の炭化水素基である。)で表されるジイソシアナート化合物とを反応させて、炭素数12〜50の水酸基含有炭化水素またはステロールが1分子反応したイソシアナート基含有疎水性化合物を製造し、 第2段階反応として、前記第1段階反応で得られたイソシアナート基含有疎水性化合物と多糖類とをさらに反応させて、疎水性基として炭素数12〜50の炭化水素基またはステリル基を含有する疎水性基含有多糖類を製造する方法において、 第2段階反応の反応生成物をケトン系溶媒で精製する高純度疎水性基含有多糖類の製造方法。

IPC (2件)：

C08B 37/00 ,  C08B 15/00