特許
J-GLOBAL ID:200903010798582209

波長可変フィルタおよびその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 三好 秀和 (外8名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-297186
公開番号(公開出願番号):特開平11-133365
出願日: 1997年10月29日
公開日(公表日): 1999年05月21日
要約:
【要約】【課題】 偏光依存性がなく、かつ応答速度の速い波長可変フィルタを提供する。【解決手段】 両側に反射面21,22を設けたエタロンの内部に空乏層13を発生させ、この空乏層13の厚みdを変えることにより、共振波長を変えて選択的に所定の波長の光を通過させる。空乏層発生手段はp+ 領域11およびn領域12とからなるpn接合でもよく、MOS構造,ショットキー接合等でもよい。
請求項(抜粋):
エタロン部を構成する半導体領域の内部に空乏層を発生する手段を具備し、該空乏層の厚みを変化させることにより所望の波長の光を通過させることを特徴とする波長可変フィルタ。
IPC (2件):
G02F 1/015 505 ,  G02B 5/28
FI (2件):
G02F 1/015 505 ,  G02B 5/28

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