X線用多層膜ミラーの製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-318089
公開番号（公開出願番号）：特開平6-167599
出願日： 1992年11月27日
公開日（公表日）： 1994年06月14日
要約：

【要約】【目的】耐熱性に優れ、高い反射率を有するX線用多層膜ミラーを製造する。【構成】モリブデンと酸化珪素からなる多層膜を高周波マグネトロンスパッタ法により、以下の?@〜?Fの何れかの条件を設定して製造する。?@基板4とターゲット1間が 100〜200 mm、?Aアルゴンガス圧が1〜5mTorr 、?Bターゲット1に印加する電力が単位面積あたり 1.7〜2.8 W/cm2 、?C基板4の温度が 100°C以下、?D各ターゲット1に連続して電力を印加し続ける、?Eスパッタリング空間に各ターゲットを設置してそれぞれシャッタ3を設け一方の層を形成する時は他方を閉じる、?F基板4をスパッタ原子の飛来する領域内で一定速度で通過させる。

請求項（抜粋）：

モリブデンからなる層と炭化珪素からなる層が交互に積層された多層膜を有するX線用多層膜ミラーの製造方法において、前記各層を高周波マグネトロンスパッタ法により形成すると共に、形成時、前記多層膜を形成する基板とターゲットとの間隔を 100〜200 mmの範囲に設定することを特徴とするX線用多層膜ミラーの製造方法。

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開昭63-088502
特開平2-053002
特開平4-259900

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