特許
J-GLOBAL ID:200903010844636246

プラズマ発生電極、プラズマ反応器及び排ガス浄化装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 渡邉 一平
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-083530
公開番号(公開出願番号):特開2007-258090
出願日: 2006年03月24日
公開日(公表日): 2007年10月04日
要約:
【課題】被処理流体を一度流すだけで、被処理流体の所定の成分を、それぞれの反応に最適な強さのプラズマで、反応処理することができるプラズマ発生電極を提供する。【解決手段】プラズマ発生電極1であって、単位電極2が、誘電体となる板状のセラミック体3と、セラミック体3の内部に配設された導電膜4から形成されるとともに、複数の単位電極2が一定間隔で積層され、互いに隣接する単位電極2に配設される導電膜4間の距離Dが部分的に異なるか、又は、単位電極2を構成するセラミック体の誘電率が部分的に異なり、空間Vに、部分的に異なる強さのプラズマを発生させることが可能なプラズマ発生電極1。【選択図】図2
請求項(抜粋):
複数の単位電極が所定間隔を隔てて階層的に積層されてなるとともに、前記単位電極相互間に、一の方向(ガス流通方向)の少なくとも一方の端部が開放されるとともに他の方向の両端が閉鎖された空間が形成されてなり、これらの単位電極間に電圧を印加することによって前記空間においてプラズマを発生させることが可能なプラズマ発生電極であって、 前記単位電極が、誘電体となる板状のセラミック体と、前記セラミック体の内部に配設された導電膜から形成されるとともに、 複数の前記単位電極が一定間隔で積層され、 互いに隣接する前記単位電極に配設される前記導電膜間の距離が部分的に異なるか、又は、前記単位電極を構成するセラミック体の誘電率が部分的に異なり、 前記空間に、部分的に異なる強さのプラズマを発生させることが可能なプラズマ発生電極。
IPC (4件):
H05H 1/24 ,  B01D 53/94 ,  F01N 3/08 ,  B01J 19/08
FI (4件):
H05H1/24 ,  B01D53/36 101A ,  F01N3/08 C ,  B01J19/08 E
Fターム (50件):
3G091AA12 ,  3G091AA18 ,  3G091AA24 ,  3G091AB01 ,  3G091AB14 ,  3G091BA14 ,  3G091BA15 ,  3G091GB01W ,  3G091GB01X ,  3G091GB05W ,  3G091GB06W ,  3G091GB07W ,  3G091GB17X ,  4D048AA06 ,  4D048AB02 ,  4D048BA01Y ,  4D048BA02Y ,  4D048BA03Y ,  4D048BA06Y ,  4D048BA07Y ,  4D048BA08Y ,  4D048BA10X ,  4D048BA11Y ,  4D048BA15Y ,  4D048BA16Y ,  4D048BA17Y ,  4D048BA19Y ,  4D048BA30Y ,  4D048BA31Y ,  4D048BA33Y ,  4D048BA34Y ,  4D048BA35Y ,  4D048BA36Y ,  4D048BA38Y ,  4D048BA39Y ,  4D048BA41Y ,  4D048BA42Y ,  4D048BA46Y ,  4D048BB17 ,  4D048EA03 ,  4G075AA03 ,  4G075AA37 ,  4G075CA47 ,  4G075CA54 ,  4G075DA18 ,  4G075EC21 ,  4G075FA12 ,  4G075FB04 ,  4G075FC11 ,  4G075FC15
引用特許:
出願人引用 (2件) 審査官引用 (9件)
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