特許

J-GLOBAL ID：200903010852355884

基板処理装置

発明者： 新居 健一郎
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 間宮 武雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-158899
公開番号（公開出願番号）：特開平11-354492
出願日： 1998年06月08日
公開日（公表日）： 1999年12月24日
要約：

【要約】【課題】 処理槽を取り囲むように配設された外囲槽の内底部に貯留される冷却液が滞留することに原因してパーティクルが発生することを防止できる装置を提供する。【手段】 処理槽10の側面および底面を取り囲むように配設された外囲槽12の内底部に、冷却水30を堰板26によりせき止めて貯留する水溜め部28を形設し、水溜め部に溜まった冷却水を排出するために堰板に小孔32を形成した。

請求項（抜粋）：

加熱された処理液が貯留されその処理液中に基板を浸漬させて処理する処理槽の側面および底面を取り囲むように外囲槽を配設し、その外囲槽の内側に冷却液を供給する冷却液供給手段を設け、前記外囲槽の内底部に、前記冷却液供給手段によって外囲槽の内側に供給され外囲槽の内底部へ流下した冷却液を堰によりせき止めて貯留する液溜め部を形設した基板処理装置であって、前記外囲槽に、前記液溜め部に溜まった冷却液を排出する液抜き手段を設けたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/306 ,  G03F 7/30 ,  H01L 21/027

FI (3件)：

H01L 21/306 J ,  G03F 7/30 ,  H01L 21/30 569 B