特許

J-GLOBAL ID：200903010883178743

気体分離膜の製造方法

発明者： 喜多 英敏 ,  岡本 健一 ,  穴澤 孝典
出願人/特許権者： 大日本インキ化学工業株式会社
代理人 (1件)： 高橋 勝利
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-102452
公開番号（公開出願番号）：特開平9-285722
出願日： 1996年04月24日
公開日（公表日）： 1997年11月04日
要約：

【要約】【解決手段】 ポリイミダゾピロロン系重合体からなる膜を、不活性雰囲気中、例えば不活性気体中にて410〜1500°C、好ましくは450〜900°Cで焼成する。【効果】 気体選択性の向上した気体分離膜が容易に安定して製造できる。

請求項（抜粋）：

ポリイミダゾピロロン系重合体からなる膜を不活性雰囲気中にて410〜1500°Cで焼成することを特徴とする気体分離膜の製造方法。

IPC (7件)：

B01D 71/64 ,  B01D 53/22 ,  C01B 3/50 ,  C01B 21/04 ,  C01B 31/02 101 ,  C01B 31/20 ,  C08G 73/06 NTM

FI (7件)：

B01D 71/64 ,  B01D 53/22 ,  C01B 3/50 ,  C01B 21/04 M ,  C01B 31/02 101 Z ,  C01B 31/20 B ,  C08G 73/06 NTM