特許
J-GLOBAL ID:200903010887190977

基板加熱装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 五十嵐 孝雄 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-032943
公開番号(公開出願番号):特開平10-223642
出願日: 1997年01月31日
公開日(公表日): 1998年08月21日
要約:
【要約】【課題】 加熱処理による基板の面内温度分布を均一として、基板の変形を防止する。【解決手段】 基板Wをホットプレートのプレート42上に支持する3個のプロキシミティギャップ用ボール47a、47b(1個は図示せず)を、従来のものよりプレート42の中央部側へ配置する。この構成によれば、プロキシミティギャップ用ボール47a、47b上の基板Wは自重により、その外周部がプレート42表面側に撓む。これに対して、プレート42は、放熱により中央部より外周部の方が温度が低くなっているが、上述したように、基板Wの外周部をプレート42表面側に撓ませていることから、基板の外周部を中央部よりホットプレートの上面に近づけさせることで、基板の面内温度分布を略均一なものとすることができる。
請求項(抜粋):
基板を加熱処理する基板加熱装置であって、上面を昇温可能なホットプレートと、該ホットプレート上に複数配設されて前記基板を前記ホットプレートの上面から浮かせて支持する支持部材とを設け、前記ホットプレートから熱を受ける基板の面内温度分布が略均一となるように、前記支持部材の配設位置を定めたことを特徴とする基板加熱装置。

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