特許
J-GLOBAL ID：200903010889348713
エリプソパラメータ測定方法及びエリプソメータ
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
鈴江 武彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-315686
公開番号（公開出願番号）：特開平5-157521
出願日： 1991年11月29日
公開日（公表日）： 1993年06月22日
要約：
【要約】【目的】 エリプソメータに含まれる可動光学部材を除去して、測定速度を上昇するとともに、膜厚測定において常に一定の高い測定精度を維持する。【構成】 光源部から測定対象に入射されて、この測定対象にて反射された楕円偏光を有する反射光を互いに方向が異なる4つの偏光成分に分離して各偏光成分の光強度を検出し、検出された4つの光強度のうち値が最も小さい光強度を破棄して、値が大きい残りの3つの光強度を用いてエリプソパラメータψ,Δを算出している。また、可動する光学部材を排除して固定光学部材のみで構成している。さらに、4つの光強度を得る各偏光成分の偏光方向をそれぞれ基準方向に対して90°,0°,+45°,-45°に設定している。また、4つの偏光成分を取出すために複合ビームスプリッタを用いている。
請求項（抜粋）：
測定対象に対して偏光した光を所定角度で入射させ、この測定対象の反射光をそれぞれ互いに異なる4つの偏光成分に分離し、この分離された4つの偏光成分の光強度のうち値の大きい3つの光強度を選択してこの3つの光強度に基づいてエリプソパラメータを求めることを特徴とするエリプソパラメータ測定方法。
IPC (3件)：
G01B 11/06
, G01J 4/04
, G01N 21/21
