特許

J-GLOBAL ID：200903010898106773

基板処理装置

発明者： 芳谷 光明 ,  中村 次雄
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 川崎 実夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-197621
公開番号（公開出願番号）：特開2000-031239
出願日： 1998年07月13日
公開日（公表日）： 2000年01月28日
要約：

【要約】【課題】基板処理装置の装置の全長を短縮する。基板処理装置のコストを低減する。【解決手段】互いに平行な第1搬送路51および第2搬送路52、ならびにこれらを結合する反転経路53を有するほぼU字状の経路に沿って基板が搬送される。第1搬送路51には、乾式処理部である紫外線照射部62およびオゾンアッシング部63、ならびに湿式処理部であるブラシ水洗部64が配列されている。第2搬送路52には、紫外線照射部62に対向する位置に別の紫外線照射部68が配置され、オゾンアッシング部63に対向する位置に乾式処理部であるエアナイフ部67が配置され、ブラシ水洗部64に対向する位置に湿式処理部である水洗部66が配置されている。紫外線照射部62,68は、処理室81を共有しており、ブラシ水洗部64および水洗部66は処理室82を共有している。

請求項（抜粋）：

互いにほぼ平行に配置された第1搬送路および第2搬送路と、これらの第1搬送路と第2搬送路との間で基板を搬送する反転経路と、上記第1搬送路から上記反転経路を経て上記第2搬送路へと基板を搬送し、ほぼU字状の基板搬送路に沿って基板を搬送する基板搬送手段と、上記第1搬送路に配置され、上記基板搬送手段によって搬送される基板に対して湿式の処理を施す第1湿式処理部と、上記第2搬送路において上記第1湿式処理部に対向するように配置され、上記基板搬送手段によって搬送される基板に対して湿式の処理を施す第2湿式処理部と、上記第1搬送路に配置され、上記基板搬送手段によって搬送される基板に対して乾式の処理を施す第1乾式処理部と、上記第2搬送路において上記第1乾式処理部に対向するように配置され、上記基板搬送手段によって搬送される基板に対して乾式の処理を施す第2乾式処理部とを含むことを特徴とする基板処理装置。

IPC (8件)：

H01L 21/68 ,  B08B 3/02 ,  B08B 7/00 ,  B08B 7/04 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 645 ,  H01L 21/304 648 ,  H01L 21/304 651

FI (8件)：

H01L 21/68 A ,  B08B 3/02 C ,  B08B 7/00 ,  B08B 7/04 A ,  H01L 21/304 645 D ,  H01L 21/304 648 A ,  H01L 21/304 651 L ,  H01L 21/30 572 B

Fターム (32件)：

3B116AA02 ,  3B116AA03 ,  3B116AB14 ,  3B116AB23 ,  3B116BA02 ,  3B116BA08 ,  3B116BA14 ,  3B116BB21 ,  3B116BB83 ,  3B116BC01 ,  3B116CC01 ,  3B116CC03 ,  3B201AA02 ,  3B201AA03 ,  3B201AB13 ,  3B201AB23 ,  3B201BA02 ,  3B201BA08 ,  3B201BA15 ,  3B201BB83 ,  3B201BB93 ,  3B201BB94 ,  3B201BB95 ,  3B201BC01 ,  3B201CC01 ,  3B201CC12 ,  5F031BB01 ,  5F031CC01 ,  5F031CC15 ,  5F031KK02 ,  5F046MA04 ,  5F046MA10