特許

J-GLOBAL ID：200903010898109667

酸化亜鉛配向膜の製造方法

発明者： 大山 正嗣 ,  作花 濟夫 ,  横尾 俊信
出願人/特許権者： 出光興産株式会社
代理人 (1件)： 大谷 保
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-104362
公開番号（公開出願番号）：特開平5-294622
出願日： 1992年04月23日
公開日（公表日）： 1993年11月09日
要約：

【要約】【目的】 均一かつ緻密なC軸が基板の表面に垂直に配向した酸化亜鉛薄膜を簡便かつ低コストで製造する方法の開発。【構成】 亜鉛化合物溶液を基板に塗布して得られた塗布膜を2段階の加熱処理を経ることによって得られる酸化亜鉛配向膜の製造方法

請求項（抜粋）：

亜鉛化合物溶液を基板に塗布して得られた塗布膜を200°C以上500°C未満で1段目加熱処理をし、さらに1段目の加熱温度より高い温度〜1000°C以下で2段目加熱処理をすることを特徴とする酸化亜鉛配向膜の製造方法。