特許
J-GLOBAL ID：200903010899195680
ガス浄化装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
樺山 亨 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-120915
公開番号（公開出願番号）：特開平10-309438
出願日： 1997年05月12日
公開日（公表日）： 1998年11月24日
要約：
【要約】【課題】 各種形状の触媒担体に付着された全域の光触媒に紫外線を拡散して照射し、照射効率を向上させて、触媒担体に付着される全ての光触媒が無駄無く強酸化作用を示し、効率良くガス浄化を行うことにある。【解決手段】 被処理ガスGの通路2内に配備される触媒担体15と、同触媒担体15に担持され紫外線Lが照射されることにより被処理ガスGを浄化する光触媒16と、光触媒16に紫外線Lを照射する紫外線照射手段14とを備え、特に、触媒担体15は透光性を有する。
請求項（抜粋）：
被処理ガスの通路内に配備される触媒担体と、同触媒担体に担持され紫外線を含む光が照射されることにより被処理ガスを浄化する光触媒と、上記光触媒に紫外線を照射する紫外線照射手段とを備えたガス浄化装置において、上記触媒担体は透光性を有することを特微とするガス浄化装置。
IPC (3件)：
B01D 53/86 ZAB
, B01D 53/86
, B01J 35/02
B01D 53/36 ZAB J
, B01J 35/02 J
, B01D 53/36 C
