特許
J-GLOBAL ID：200903010920755519

薄膜の製造方法、光学部品の製造方法および成膜装置

発明者：
鈴木 慶一

鈴木 慶一 について

, 
片桐 寛司

片桐 寛司 について

, 
川瀬 明子

川瀬 明子 について


出願人/特許権者：
セイコーエプソン株式会社

セイコーエプソン株式会社 について


代理人 (3件)： 上柳 雅誉 ,  藤綱 英吉 ,  須澤 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-291057
公開番号（公開出願番号）：特開2005-187936
出願日： 2004年10月04日
公開日（公表日）： 2005年07月14日
要約：
【課題】 フッ素含有有機ケイ素化合物による防汚層を成膜する条件を提供する。【解決手段】 チェンバーCH3において、ワーク40の表面に、フッ素含有有機ケイ素化合物を蒸着源59として、薄膜を生成する際に、チェンバーCH3に設置された蒸着源59とワーク40との最大距離Lmに対する、フッ素含有有機ケイ素化合物の平均自由行程λの比率λ/Lmが0.2%以上になるようにチェンバーCH3の圧力を設定する。これにより、適切な膜厚で、段むらがなく、さらに、防汚性および耐久性の優れた防汚層を製造することができる。【選択図】 図2
請求項（抜粋）：
ワークの含シリコン化合物の表面に、フッ素含有有機ケイ素化合物を蒸着源として、薄膜を生成する成膜工程を有する薄膜の製造方法であって、 前記成膜工程では、チェンバー内に設置された前記蒸着源と前記ワークとの最大距離に対する、前記フッ素含有有機ケイ素化合物の平均自由行程の比率が0.2%以上になるように前記チェンバーの圧力を設定する薄膜の製造方法。
IPC (4件)：
C23C14/12 ,  C23C14/24 ,  G02B1/10 ,  G02B1/11
FI (4件)：
C23C14/12 ,  C23C14/24 U ,  G02B1/10 Z ,  G02B1/10 A
Fターム (30件)：
2K009AA02 ,  2K009AA15 ,  2K009BB01 ,  2K009CC03 ,  2K009CC26 ,  2K009CC42 ,  2K009DD03 ,  2K009EE05 ,  4H049VN01 ,  4H049VP02 ,  4H049VP11 ,  4H049VQ19 ,  4H049VQ77 ,  4H049VR21 ,  4H049VR22 ,  4H049VR32 ,  4H049VR33 ,  4H049VU25 ,  4H049VW02 ,  4K029AA11 ,  4K029AA24 ,  4K029BA43 ,  4K029BA46 ,  4K029BA62 ,  4K029BB02 ,  4K029BD00 ,  4K029CA01 ,  4K029DB06 ,  4K029DB08 ,  4K029EA03
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (2件)
  • 有機膜の成膜法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-139769   出願人：東レ株式会社
  • 有機膜の成膜方法
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-139768   出願人：東レ株式会社

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