特許

J-GLOBAL ID：200903010929443404

大気圧プラズマ処理装置、大気圧プラズマ処理方法、基材、光学フィルム、及び画像表示素子

発明者： 福田 和浩 ,  近藤 慶和 ,  戸田 義朗 ,  大石 清 ,  西脇 彰
出願人/特許権者： コニカ株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-189640
公開番号（公開出願番号）：特開2003-003266
出願日： 2001年06月22日
公開日（公表日）： 2003年01月08日
要約：

【要約】【課題】 基材に経時変化を起こさない膜、緻密な膜、強力な接着力を有する膜を形成する大気圧プラズマ処理装置を提供する。【解決手段】 大気圧又は大気圧近傍の圧力下において、対向する電極間に基材を位置させ、さらに反応ガス及び不活性ガスを含有する気体を存在させて高周波電圧を印加することにより放電プラズマを発生させ、前記基材の表面処理を行う大気圧プラズマ処理装置において、前記対向する電極間に前記気体を供給するガス導入口を有し、該ガス導入口から供給される前記気体の反応ガス含有量を変動させることを特徴とする大気圧プラズマ処理装置。

請求項（抜粋）：

大気圧又は大気圧近傍の圧力下において、対向する電極間に基材を位置させ、さらに反応ガス及び不活性ガスを含有する気体を存在させて高周波電圧を印加することにより放電プラズマを発生させ、前記基材の表面処理を行う大気圧プラズマ処理装置において、前記対向する電極間に前記気体を供給するガス導入口を有し、該ガス導入口から供給される前記気体の反応ガス含有量を変動させることを特徴とする大気圧プラズマ処理装置。

IPC (7件)：

C23C 16/505 ,  C08J 7/00 306 ,  C08J 7/00 CER ,  C08J 7/00 CEZ ,  G02B 1/10 ,  H05H 1/46 ,  C08L101:00

FI (7件)：

C23C 16/505 ,  C08J 7/00 306 ,  C08J 7/00 CER ,  C08J 7/00 CEZ ,  H05H 1/46 M ,  C08L101:00 ,  G02B 1/10 Z

Fターム (30件)：

2K009CC02 ,  2K009CC03 ,  2K009CC06 ,  2K009CC26 ,  2K009CC42 ,  2K009CC45 ,  2K009DD04 ,  2K009EE00 ,  4F073AA01 ,  4F073AA32 ,  4F073BA03 ,  4F073BA06 ,  4F073BA19 ,  4F073BA23 ,  4F073BA26 ,  4F073BB01 ,  4F073CA04 ,  4F073CA16 ,  4F073DA04 ,  4F073DA09 ,  4K030AA11 ,  4K030AA16 ,  4K030AA17 ,  4K030BA46 ,  4K030CA07 ,  4K030FA01 ,  4K030GA14 ,  4K030JA06 ,  4K030KA30 ,  4K030LA18