特許
J-GLOBAL ID:200903010938997420

L-フェニルアラニン脱水素酵素及びその製造法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-030519
公開番号(公開出願番号):特開2001-218579
出願日: 2000年02月08日
公開日(公表日): 2001年08月14日
要約:
【要約】【課題】 産業上の酵素利用の観点から望まれていた、より安定なL-フェニルアラニンおよびその製造法を提供する。【解決手段】 以下の理化学的性質を有するL-フェニルアラニン脱水素酵素。(a)作用:1モルのL-フェニルアラニン、1モルのNAD+及び1モルの水から1モルのフェニルピルビン酸、1モルのNADH及び1モルのアンモニウムイオンを生成する反応、並びにこの逆反応を触媒する。(b)基質特異性:L-フェニルアラニン及び芳香環に置換基を持つL-フェニルアラニン誘導体に特異的に作用する。(c)至適pH:酸化的脱アミノ反応では、pH10.8付近が至適であり、還元的アミノ化反応では、pH8.4付近が至適である。(f)温度安定性:75°C以下で安定である。
請求項(抜粋):
以下の理化学的性質を有するL-フェニルアラニン脱水素酵素。(a)作用:1モルのL-フェニルアラニン、1モルのNAD+及び1モルの水から1モルのフェニルピルビン酸、1モルのNADH及び1モルのアンモニウムイオンを生成する反応、並びにこの逆反応を触媒する。(b)基質特異性:L-フェニルアラニン及び芳香環に置換基を持つL-フェニルアラニン誘導体に特異的に作用する。(c)至適pH:酸化的脱アミノ反応では、pH10.8付近が至適であり、還元的アミノ化反応では、pH8.4付近が至適である。(d)pH安定性:pH6.0〜pH10.5付近の間で安定である。(e)至適温度:酸化的脱アミノ反応において、pH10.6では65°C付近における活性が最大であり、pH8.5では85°C付近における活性が最大である。(f)温度安定性:75°C以下で安定である。(g)分子量:ポリアクリルアミド電気泳動において、約285,000の分子量を示し、SDS電気泳動において、約44,000のサブユニット分子量を示す。
IPC (2件):
C12N 9/06 ,  C12R 1:00
FI (2件):
C12N 9/06 B ,  C12R 1:00
Fターム (7件):
4B050CC01 ,  4B050DD02 ,  4B050EE01 ,  4B050FF09E ,  4B050FF11E ,  4B050FF12E ,  4B050LL05

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