特許

J-GLOBAL ID：200903010941551905

電子線露光方法及びその装置

発明者： 小野田 中
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 菅野 中
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-274770
公開番号（公開出願番号）：特開平10-125574
出願日： 1996年10月17日
公開日（公表日）： 1998年05月15日
要約：

【要約】【課題】 半導体集積回路等において、光露光装置によるパターンに電子線露光装置によるパターンを重ね合わせるハイブリッド露光において、パターンの重ね合わせを精度よく行う。【解決手段】 光露光装置で形成したときのチップ内の光学歪みを予め測定しておき、この歪の程度により電子線露光装置におけるフィールドのサイズと補正(シフト,ゲイン,ローテーションなど)を行うことにより、ハイブリッド露光における重ね合わせ精度を向上させる。

請求項（抜粋）：

光露光によるパターンに電子線露光によるパターンを重ねて形成する電子線露光方法であって、電子線露光において、描画パターンデータを電子線の電気的偏向領域(フィールド)に分割する際、最大偏向領域以下の複数のサイズの領域に分割することを特徴とする電子線露光方法。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 504 ,  G21K 5/04

FI (3件)：

H01L 21/30 541 J ,  G03F 7/20 504 ,  G21K 5/04 M