特許
J-GLOBAL ID:200903010955933800

プラズマ発生器

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 大垣 孝
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-301305
公開番号(公開出願番号):特開平11-135297
出願日: 1997年10月31日
公開日(公表日): 1999年05月21日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 プラズマ発生領域からプラズマ処理領域へプラズマ種を効率よく移送し、しかもガスのプラズマ発生領域への逆送を防止するプラズマ発生器を提供する。【解決手段】 プラズマ発生器は真空チャンバ内にプラズマ発生領域10、プラズマ処理領域12及びプラズマ移送領域14が画成されている。プラズマ発生領域で発生したプラズマをプラズマ処理領域に導くためのガス経路として確保されたプラズマ移送領域14は、プラズマ発生領域とプラズマ処理領域間を結合する複数の互いに分離された部分移送領域34であり、それは直線的に延在する円筒形状隔壁である管状部材36で構成される。また各部分移送領域の内部に磁場を形成するため、管状部材の外壁周囲に設けられたコイルから成るプラズマ移送コイル38を備えている。これらのコイルによりプラズマ移送領域内に形成された磁場が、プラズマ発生領域からプラズマ処理領域へとプラズマ種を移送する。
請求項(抜粋):
プラズマ発生領域でプラズマを生成し、該プラズマをプラズマ移送領域を経てプラズマ処理領域に導き、所定のプラズマ処理を行うプラズマ発生器であって、前記プラズマ移送領域は、前記プラズマ発生領域と前記プラズマ処理領域との間を連通する複数の互いに分離された部分移送領域として画成してあり、各前記部分移送領域の内部に磁場を形成するための磁気回路を具えていることを特徴とするプラズマ発生器。
IPC (6件):
H05H 1/46 ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065 ,  H01L 21/31
FI (6件):
H05H 1/46 L ,  C23C 16/50 ,  C23F 4/00 D ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/31 C ,  H01L 21/302 B

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