特許

J-GLOBAL ID：200903010966679175

配線基板検査用コンタクトピンの製造方法及び配線基板検査装置

発明者： 板垣 洋輔 ,  佐藤 正春 ,  久住 肇
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 高橋 詔男 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-171817
公開番号（公開出願番号）：特開2000-007784
出願日： 1998年06月18日
公開日（公表日）： 2000年01月11日
要約：

【要約】【課題】 高導電性で光によるパターン形成可能な導電性高分子の製法、高導電性で柔軟性に富んだコンタクトピンの製法、及びプリント配線基板等の電気的検査に用いられる基板配線基板検査装置を提供すること。【解決手段】 ピロール若しくはエチレンジオキシチオフェンをモノマーとし、ナフタレンスルホン酸アニオン若しくはその誘導体の第2銅塩を酸化剤として、これらをアルコール溶媒存在下で接触させて重合反応を行う導電性高分子の製造方法である。また、電極パッド2を備えた支持板3の上に感光性樹脂と酸化剤とからなる混合物層4を形成する工程と、光化学反応によってパターンを形成する工程と、パターンを現像する工程と、導電性高分子のモノマーを重合する工程とを含むコンタクトピン1の製造方法であって、酸化剤が波長360nmにおけるモル吸光係数100〜2000である配線基板検査用コンタクトピンの製造方法である。

請求項（抜粋）：

ピロール、もしくはエチレンジオキシチオフェンをモノマーとし、ナフタレンスルホン酸アニオンもしくはその誘導体の第2銅塩を酸化剤として、前記モノマーと前記酸化剤とをアルコール溶媒存在下で接触させて重合反応を行うことを特徴とする導電性高分子の製造方法。

IPC (4件)：

C08G 75/00 ,  C08G 73/06 ,  G01R 1/073 ,  G01R 31/02

FI (4件)：

C08G 75/00 ,  C08G 73/06 ,  G01R 1/073 F ,  G01R 31/02

Fターム (28件)：

2G011AA16 ,  2G011AA21 ,  2G011AB06 ,  2G011AB08 ,  2G014AA02 ,  2G014AA03 ,  2G014AB59 ,  2G014AC10 ,  4J030BA32 ,  4J030BB45 ,  4J030BC08 ,  4J030BC24 ,  4J030BC40 ,  4J030BF13 ,  4J030BG04 ,  4J043PA02 ,  4J043QC21 ,  4J043RA33 ,  4J043RA66 ,  4J043SA31 ,  4J043SA81 ,  4J043SB01 ,  4J043UA331 ,  4J043XA15 ,  4J043XA29 ,  4J043XB21 ,  4J043ZA44 ,  4J043ZB47

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 固体電解コンデンサおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-211666   出願人：日本電気株式会社
• 特開平4-048710