基板の洗浄方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：船橋國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-129468
公開番号（公開出願番号）：特開平9-312276
出願日： 1996年05月24日
公開日（公表日）： 1997年12月02日
要約：

【要約】【課題】洗浄処理工程での基板表面へのパーティクル吸着を防止する。【解決手段】洗浄液中およびリンス液中での基板1表面のゼータ電位と、洗浄液中およびリンス液中に存在するパーティクル表面のゼータ電位とを同極性にする添加剤を、洗浄液とリンス液とに添加することにより、または洗浄液もしくはリンス液に添加することにより、洗浄処理工程の洗浄およびリンス全体を通して基板表面のゼータ電位とパーティクル表面のゼータ電位とを同極性にして、洗浄処理工程を行う。

請求項（抜粋）：

基板を洗浄した後にリンスする洗浄処理工程を有する基板の洗浄方法において、前記洗浄に用いる洗浄液中および前記リンスに用いるリンス液中での前記基板表面のゼータ電位と、前記洗浄液中および前記リンス液中に存在するパーティクル表面のゼータ電位とを同極性にする添加剤を、前記洗浄液と前記リンス液とに添加することにより、または前記洗浄液もしくは前記リンス液に添加することにより、前記洗浄処理工程の洗浄およびリンス全体を通して前記基板表面のゼータ電位と前記パーティクル表面のゼータ電位とを同極性にして、前記洗浄処理工程を行うことを特徴とする基板の洗浄方法。

IPC (3件)：

H01L 21/304 341 , H01L 21/304 , B08B 3/08

FI (3件)：

H01L 21/304 341 S , H01L 21/304 341 L , B08B 3/08

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