特許

J-GLOBAL ID：200903010974773997

反射防止膜組成物及びこれを用いたパタンの製造法

発明者： 粕谷 圭 ,  橋本 通晰
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-323951
公開番号（公開出願番号）：特開平7-181684
出願日： 1993年12月22日
公開日（公表日）： 1995年07月21日
要約：

【要約】【目的】 工程数を増やすことなく、レジストの感度の低下を伴わずにパタンの微細化ができる反射防止膜組成物を提供する。【構成】 ポリ(ビニルメチルエーテル)樹脂、フッ素系水溶性界面活性剤及び水溶性フッ素化合物を含有し、レジスト膜上に形成される反射防止膜組成物ならびにこの反射防止膜組成物を用いて反射防止膜を形成する工程を含むパタンの製造法。

請求項（抜粋）：

ポリ(ビニルメチルエーテル)樹脂、フッ素系水溶性界面活性剤及び水溶性フッ素化合物を含有し、レジスト膜上に形成される反射防止膜組成物。

IPC (6件)：

G03F 7/11 501 ,  C08L 29/10 LGZ ,  C09D 5/00 PPQ ,  C09D129/10 PFP ,  G03F 7/26 511 ,  H01L 21/027