特許
J-GLOBAL ID:200903010976267517

露光装置の制御方法、並びに、これを用いた露光方法及び装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 福田 充広
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-232086
公開番号(公開出願番号):特開2006-049758
出願日: 2004年08月09日
公開日(公表日): 2006年02月16日
要約:
【課題】 光学素子の特性を長期間にわたって良好に維持することができる露光装置の制御方法を提供すること。【解決手段】 質量分析装置87によって酸化性ガスや被膜形成ガスである劣化要因ガスの分圧が監視されており、制御装置90の制御下でガス供給装置86からの劣化抑制ガスが真空容器84中に適宜導入されるので、投影光学系70等を構成する光学素子の光学特性を長期間にわたって良好に維持することができる。また、照度センサ88によって投影光学系70等を構成する光学素子の反射率低下が監視されており、制御装置90の制御下でガス供給装置86からの劣化抑制ガスが真空容器84中に適宜導入される。これによっても、投影光学系70等を構成する光学素子の光学特性を長期間にわたって良好に維持することができる。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
露光装置の光学系を収容する容器中における酸素、水、及び有機物の少なくとも1つを含む劣化要因ガスの分圧をモニタする工程と、 前記容器中における前記劣化要因ガスの分圧に対して、還元性ガス、酸化性ガス、及びフッ素化ガスの少なくとも1つを含む劣化抑制ガスの分圧が所定範囲の比率となるように、前記劣化要因ガスのモニタ結果に応じて前記容器中に劣化抑制ガスを導入する工程と を備える露光装置の制御方法。
IPC (2件):
H01L 21/027 ,  G03F 7/20
FI (4件):
H01L21/30 516F ,  G03F7/20 521 ,  H01L21/30 515D ,  H01L21/30 531A
Fターム (6件):
5F046AA22 ,  5F046CB01 ,  5F046DA12 ,  5F046DA27 ,  5F046GA07 ,  5F046GB01
引用特許:
出願人引用 (1件)

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