特許

J-GLOBAL ID：200903010979772212

真空処理装置

発明者： 高添 敏彦 ,  芦沢 研吾
出願人/特許権者： テル・バリアン株式会社
代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-003041
公開番号（公開出願番号）：特開平6-140294
出願日： 1992年01月10日
公開日（公表日）： 1994年05月20日
要約：

【要約】【目的】 従来に較べて被処理物に付着する塵埃の量を低減することができ、歩留まりの向上を図ることのできる真空処理装置を提供する。【構成】 半導体ウエハ12と対向するロードロック室14内の天井面には、静電気を帯び易い材質、例えばテフロン等の樹脂からなる塵埃吸着機構23が設けられている。このロードロック室14には、真空ポンプに接続された排気配管24と、窒素ガス供給源に接続された窒素ガス供給配管25が接続されている。この窒素ガス供給配管25には、静電気除去装置26と、この静電気除去装置26をバイパスするバイパス配管27とが設けられており、バルブ28、29によって、窒素ガスの流通経路を、静電気除去装置26を通過させる経路およびバイパス配管27を通過させる経路のどちらかに切り替えることができるよう構成されている。

請求項（抜粋）：

被処理物に所定の処理を施す真空処理室と、内部を真空排気可能に構成された予備真空室とを備え、この予備真空室を介して、前記被処理物を前記真空処理室内に搬入、搬出するよう構成された真空処理装置において、前記予備真空室内に設けられ、静電気により塵埃を吸着する塵埃吸着手段と、前記塵埃吸着手段の静電気を除去し、吸着された塵埃を除去するクリーニング手段とを具備したことを特徴とする真空処理装置。

IPC (8件)：

H01L 21/02 ,  B03C 3/02 ,  C23C 14/00 ,  C23C 14/56 ,  C30B 25/14 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/285 ,  H01L 21/31