特許

J-GLOBAL ID：200903010987418339

燃焼排ガスの処理装置

発明者： 芝田 瑛 ,  清野 健一 ,  白神 研 ,  滝 義宏 ,  栗原 勝幸 ,  金子 充良 ,  井上 覚 ,  塚本 圭祐
出願人/特許権者： 三菱化学株式会社 ,  株式会社荏原製作所
代理人 (1件)： 吉嶺 桂 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-076426
公開番号（公開出願番号）：特開平11-253754
出願日： 1998年03月11日
公開日（公表日）： 1999年09月21日
要約：

【要約】【課題】 水による洗浄とか、触媒を取り出して加熱処理することなく、一系列の触媒装置のみで効率よく触媒が再生できる排ガス処理装置を提供する。【解決手段】 燃焼装置1、熱交換器2、集塵装置3、触媒装置4及び煙突5を有し、それらを順次排ガス通路で接続した燃焼排ガスの処理装置において、前記触媒装置を再生するための、燃焼装置からの燃焼排ガスを直接触媒装置4に導入するダンパ14を有するバイパス通路17を設けた触媒再生手段を有することとしたものであり、前記熱交換器に入る排ガス通路及び触媒装置の前後の排ガス通路にはダンパ11、12、13を設けると共に、バイパス通路18、19を設け、触媒再生時には燃焼排ガスを1-17-4-18-2-3-19-5と流して再生でき、前記触媒装置は、脱硝及び/又はダイオキシン分解触媒反応器を適用できる。

請求項（抜粋）：

燃焼装置、熱交換器、集塵装置、触媒装置及び煙突を有し、それらを順次排ガス通路で接続した燃焼排ガスの処理装置において、前記触媒装置を再生するための、燃焼装置からの燃焼排ガスを直接触媒装置に導入するダンパを有するバイパス通路を設けたことを特徴とする触媒再生手段を有する排ガス処理装置。

IPC (3件)：

B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/87 ,  F23J 15/00

FI (4件)：

B01D 53/36 ZAB K ,  B01D 53/36 B ,  F23J 15/00 H ,  F23J 15/00 Z

引用特許：

審査官引用 (1件)

• ごみ焼却設備
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-166233   出願人：バブコック日立株式会社