特許
J-GLOBAL ID：200903010995372380
基板処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-195344
公開番号（公開出願番号）：特開平7-024396
出願日： 1993年07月12日
公開日（公表日）： 1995年01月27日
要約：
【要約】【目的】 基板表面に供給される互いに異なる第1および第2の処理液をほぼ連続的に、効率よく分別して回収することができる基板処理装置を提供する。【構成】 スピンチャック4に支持された基板2を取り囲むように、スピンチャック4のまわりに外カップ22を、またスピンチャック4と外カップ22との間に内カップ24をそれぞれ配置し、基板2に現像液(第1の処理液)を作用させる場合には、補集棚32を傾斜状態に位置決めし、内カップ24に設けられた開口30および排出管34を介して排液回収部に流出させる一方、洗浄液(第2の処理液)を作用させる場合には補集棚32を垂直状態にして補集棚32,開口30および排水管36を介して排水処理部側に流出させる。
請求項（抜粋）：
基板に対して互いに異なる第1および第2の処理液をこの順序で作用させて、所定の処理を行う基板処理装置において、前記基板を支持する基板支持手段と、前記基板支持手段に支持された前記基板を取り囲むように、前記基板支持手段のまわりに配置された外カップと、前記基板支持手段と前記外カップとの間に配置され、その一部に前記処理液を前記外カップ側に通過させて前記外カップ側に流出させるための連通部を有した内カップと、前記内カップの外周面と前記外カップの内周面とで形成された第1の空間に接続された第1の排出手段と、前記内カップの内周面により形成された第2の空間に接続された第2の排出手段と、前記内カップの内周面側に配置され、前記基板に前記第1の処理液を作用させる場合には、前記連通部を介して前記第1の処理液を前記第1の排出手段側に流出させる一方、前記第2の処理液を作用させる場合には前記連通部を閉鎖して前記第2の処理液を前記第2の排出手段側に流出させる排出制御手段とを備えたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (4件)：
B05C 11/08
, B08B 3/04
, H01L 21/304 341
, H01L 21/306
