偽造防止パターン及びこれを用いた有価証券

発明者： , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-368350
公開番号（公開出願番号）：特開2002-166689
出願日： 2000年12月04日
公開日（公表日）： 2002年06月11日
要約：

【要約】【課題】視認時において、歪みが無く、且つ、視認が易い最適な潜像パターンが得られる偽造防止パターンを提供する。【解決手段】潜像パターンを視認すべく眺める方向と垂直となる領域の線幅(LT)を他の領域の線幅より大きくした潜像パターンを設けた偽造防止パターン12。

請求項（抜粋）：

潜像パターンを視認すべく眺める方向と垂直となる領域の線幅を他の領域の線幅より大きくした潜像パターンを設けたことを特徴とする偽造防止パターン。

IPC (3件)：

B42D 15/10 501 , B42D 15/10 531 , B41M 3/14

FI (3件)：

B42D 15/10 501 P , B42D 15/10 531 B , B41M 3/14

Fターム (9件)：

2C005JB19 , 2C005JB25 , 2H113AA01 , 2H113AA06 , 2H113BA03 , 2H113BA09 , 2H113BA28 , 2H113CA39 , 2H113EA06

引用特許：

出願人引用 (3件)

審査官引用 (3件)

前のページに戻る