特許
J-GLOBAL ID：200903011011751641
ガスハイドレート処理方法および処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤田 考晴 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-131687
公開番号（公開出願番号）：特開2001-316684
出願日： 2000年04月28日
公開日（公表日）： 2001年11月16日
要約：
【要約】【課題】 スラリー状ガスハイドレートを効率よく連続的に脱水・冷却して固化させ、ガスハイドレートの粉体を大気圧下に取り出すことができるガスハイドレート処理装置を提供する。【解決手段】 スラリー状ガスハイドレートを貯える脱水タンク31と、ガスハイドレート形成物質とガスハイドレート形成物質の沸点を上昇させる沸点上昇物質とを混合した混合物Mを液化する混合物液化装置40(混合物液化手段)と、液化混合物Mを脱水タンク31へ供給する混合物供給装置50(混合物液化手段)を脱水機構D(脱水手段)として設け、液化混合物Mに含まれる液化した沸点上昇物質を冷媒物質として気化させてガスハイドレートを冷却する冷却機構F(冷却手段)を設ける。
請求項（抜粋）：
ガスハイドレート形成物質を水和させて生成された付着水を含むスラリー状ガスハイドレートの該付着水を除去する脱水工程を有するガスハイドレート処理方法であって、前記脱水工程は、前記ガスハイドレート形成物質と前記ガスハイドレート形成物質の沸点を上昇させる沸点上昇物質とを混合した混合物を、付着水が固化しない温度圧力条件で液化する混合物液化工程と、液化した前記混合物を前記スラリー状ガスハイドレートに混入する混合物混入工程と、液化した前記混合物に含まれる液体の前記ガスハイドレート形成物質と前記付着水とを反応させてガスハイドレートを生成するガスハイドレート生成工程とを有することを特徴とするガスハイドレート処理方法。
IPC (4件)：
C10L 3/06
, B01D 9/02 601
, C07C 7/20
, C07C 9/02
B01D 9/02 601 N
, C07C 7/20
, C07C 9/02
, C10L 3/00 A
