光ディスク用原盤の製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：二瓶正敬
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-359451
公開番号（公開出願番号）：特開平6-195759
出願日： 1992年12月25日
公開日（公表日）： 1994年07月15日
要約：

【要約】【目的】簡単かつ安全な工程でピットパターンを基盤上に形成し、また、記録密度を向上させる。【構成】熱記録およびエッチングによる相変化膜3のピットパターンの膜厚を大きくするために熱記録により体積を変化させて相変化膜3上に凹凸用のパターンを形成し、凸部のみがピットパターンとして残るようにエッチングする。また、相変化膜3を熱記録した後、エッチング前およびエッチング後の一方又は双方の時点で相変化膜を熱処理する。相変化膜3は毒性のあるTe、Sbを含まない材料が用いられる。

請求項（抜粋）：

熱記録により相変化するとともに体積が変化する相変化膜を基盤上に成膜し、前記基盤上の相変化膜をピットパターンに応じて相変化させ、前記相変化した部分を残すようにエッチングし、前記残存する相変化した部分をマスクとして前記基盤上をエッチングすることによりピットパターンを前記基盤上に形成する光ディスク用原盤の製造方法。

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