特許
J-GLOBAL ID：200903011018865049
電子ビーム近接露光装置における電子ビームの傾き測定方法及び傾き較正方法並びに電子ビーム近接露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
松浦 憲三
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-139498
公開番号（公開出願番号）：特開2003-318099
出願日： 2002年05月15日
公開日（公表日）： 2003年11月07日
要約：
【要約】【課題】電子ビーム近接露光装置において、電子ビームによりマスクの全面を走査する際に、電子ビームが光軸と平行な状態を保持したまま走査するように較正する。【解決手段】所定のパターンが形成されたステンシルマスク70Aと、ステンシルマスクから所定距離をおいて配置されるイメージセンサ70Bと、を有する電子ビーム傾きセンサ70を使用して電子ビームの傾きを測定し、これによって求められる電子ビーム15の傾きをゼロにするための傾き補正値を求め、電子ビームの走査位置に関わらず電子ビームが光軸と平行になるように較正する。
請求項（抜粋）：
所定の断面形状の電子ビームを出射する電子銃と、ウエハに近接配置されるマスクと、前記電子銃から出射される電子ビームが前記マスクの全面を走査するように電子ビームを偏向制御する偏向器とを備え、前記マスクに形成されたマスクパターンを前記ウエハ上のレジスト層に転写する電子ビーム近接露光装置における電子ビームの傾き測定方法において、所定のパターンが形成されたステンシルマスクと、該ステンシルマスクから所定距離をおいて配置されるイメージセンサと、を有する電子ビーム傾きセンサと、前記電子ビーム傾きセンサを前記電子ビームの光軸と直交する平面上の任意の位置に移動させる手段と、を備え、(a)前記電子ビーム傾きセンサを前記電子銃の光軸上に移動し、前記ステンシルマスクを通過した電子ビームの前記イメージセンサ上の照射位置を検出するステップと、(b)前記電子ビーム傾きセンサを前記電子銃の光軸から所定距離離れた複数位置に移動し、それぞれの位置における前記電子ビーム傾きセンサの移動量と前記ステンシルマスクを通過した電子ビームの前記イメージセンサ上の照射位置を検出するステップと、(c)前記ステップ(a)で検出された前記イメージセンサ上の照射位置と、前記ステップ(b)で検出された前記電子ビーム傾きセンサの移動量及び前記電子ビームが照射される前記イメージセンサ上の照射位置とに基づいて、前記電子銃の光軸に対する前記ステップ(b)における前記電子ビームの傾きを算出するステップと、(d)前記ステップ(b)からステップ(c)を前記電子ビーム傾きセンサを移動するごとに繰り返し実行し、各移動位置ごとに入射する電子ビームの傾きを求めるステップと、を含むことを特徴とする電子ビーム近接露光装置における電子ビームの傾き測定方法。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
, H01J 37/147
, H01J 37/305
G03F 7/20 521
, H01J 37/147 C
, H01J 37/305 B
, H01L 21/30 541 N
, H01L 21/30 541 S
5C033GG03
, 5C034BB04
, 5C034BB05
, 5F056AA22
, 5F056AA25
, 5F056BA10
, 5F056BB01
, 5F056CB28
, 5F056FA10
