光酸発生化合物、及びポジ型レジスト組成物

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小栗昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-057067
公開番号（公開出願番号）：特開2002-255930
出願日： 2001年03月01日
公開日（公表日）： 2002年09月11日
要約：

【要約】【課題】化学増幅型画像形成材料に有用な新規な化合物を提供すること、及び高感度、高解像力を有し、基板との密着性が良好で、かつパターンのエッジラフネスが改良された化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】新規なオニウム塩化合物と、そのオニウム塩化合物と特定の酸の作用により分解しアルカリに対する溶解性が増加する樹脂を含有する化学増幅型ポジ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

一般式(I-a)又は(I-b)で表される化合物。【化1】式中、R1、R2は同じでも異なっていても良く、置換基を有していても良い、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基を表し、R3、R4は同じでも異なっていても良く、水素原子、置換基を有していても良い、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、-S-R5を表す。但しR3、R4の少なくとも1つは水素原子以外の基である。R5は置換基を有していても良い、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基を表す。R6、R7は同じでも異なっていても良く、水素原子、置換基を有していても良い、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、アシル基、アルコキシカルボニル基、-S-R5を表す。R8、R9は同じでも異なっていても良く、水素原子、置換基を有していても良い、アルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、アシル基、アルコキシカルボニル基を表す。R10はアルキル基、ハロアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキル基、-O-R5を表す。nは0又は1〜3の整数を示す。また一般式(I-a)のR1〜R5の内の2つ、及び(I-b)のR1〜R10の内の2つが結合し、環を形成してもよい。X-はスルホン酸のアニオンを表す。

IPC (12件)：

C07C381/12 , C07D307/33 , C07D331/04 , C07D333/46 , C07D335/02 , C07D339/06 , C07D339/08 , C07D409/04 , C08K 5/36 , C08L101/02 , G03F 7/004 503 , G03F 7/039 601

FI (12件)：

C07C381/12 , C07D331/04 , C07D333/46 , C07D335/02 , C07D339/06 , C07D339/08 , C07D409/04 , C08K 5/36 , C08L101/02 , G03F 7/004 503 A , G03F 7/039 601 , C07D307/32 M

Fターム (30件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA03 , 2H025AA14 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE07 , 2H025BE10 , 2H025BG00 , 2H025CB14 , 2H025CB41 , 2H025FA17 , 4C023JA05 , 4C023NA01 , 4C023PA03 , 4C063CC92 , 4C063DD73 , 4C063EE10 , 4H006AA01 , 4H006AB92 , 4H006TN60 , 4J002AA031 , 4J002BH021 , 4J002BK001 , 4J002CE001 , 4J002EV296 , 4J002FD206 , 4J002GP03

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