特許
J-GLOBAL ID：200903011056654620
非線形光学材料、非線形光導波路素子及び非線形光導波路素子の形成法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-128413
公開番号（公開出願番号）：特開平6-317819
出願日： 1993年04月30日
公開日（公表日）： 1994年11月15日
要約：
【要約】【目的】 最適設計の導波路形状が、容易かつ設計通り精確に形成され、光を効率的に閉じ込めることができ、したがって効率的に二次及び三次の非線形光学効果を発現し得る非線形光学材料及び非線形光導波路素子を提供する。【構成】 フォトクロミック化合物を非線形光学物質中に含有する非線形光学材料、それを基板上に被覆した薄膜に光異性化状態のフォトクロミック化合物が支配的に分布する区画と非光異性化状態のフォトクロミック化合物が支配的に分布する区画との区分された2区画よりなるパターンが形成されており、光異性化状態のフォトクロミック化合物が支配的に分布する区画にて非線形光導波路が構成されてなる非線形光導波路素子及び上記薄膜に区画パターン化した光を照射して、同材料中に含有するフォトクロミック化合物を光異性化状態に変異化し、被照射区画に非線形光導波路を形成する非線形光導波路素子の形成法。
請求項（抜粋）：
フォトクロミック化合物を非線形光学物質中に含有することを特徴とする非線形光学材料。
IPC (3件)：
G02F 1/35 504
, G02B 6/12
, G02F 1/15 506
