特許

J-GLOBAL ID：200903011057106821

累積多層膜の製造法

発明者： 田 中 秀 明 ,  林 田 健 一 ,  赤 塚 孝 寿 ,  外 山 二 郎
出願人/特許権者： 日本メクトロン株式会社
代理人 (1件)： 佐藤 一雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-087348
公開番号（公開出願番号）：特開平6-296921
出願日： 1993年04月14日
公開日（公表日）： 1994年10月25日
要約：

【要約】【目的】 両親媒性分子を用いて、均一で欠陥のない高品質の単分子膜又は累積多層膜(LB膜)を製造する方法を提供することを目的とする。【構成】 一つの分子中に親水基と疎水基を持つ両親媒性分子を有機溶媒に溶かし、えられた溶液を水面上に展開して単分子膜を形成し、これを固体基板に繰返し転移させて累積多層膜を製造する方法において、上記両親媒性分子として水面の温度以下の融点を有する化合物を用いることを特徴とする、累積多層膜の製造法。

請求項（抜粋）：

一つの分子中に親水基と疎水基を持つ両親媒性分子を有機溶媒に溶かし、えられた溶液を水面上に展開して単分子膜を形成し、これを固体基板に繰返し転移させて累積多層膜を製造する方法において、上記両親媒性分子として水面の温度以下の融点を有する化合物を用いることを特徴とする、累積多層膜の製造法。

IPC (2件)：

B05D 1/20 ,  B01J 19/00

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平2-115038
  
• 特開昭61-145228
  
• 特開昭60-189708