特許

J-GLOBAL ID：200903011068172893

ネガ型フォトレジスト組成物

発明者： 中野 由子 ,  竹山 尚幹 ,  植田 裕治 ,  楠本 武宏 ,  植木 裕美
出願人/特許権者： 住友化学工業株式会社
代理人 (1件)： 久保山 隆 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-005797
公開番号（公開出願番号）：特開平6-214392
出願日： 1993年01月18日
公開日（公表日）： 1994年08月05日
要約：

【要約】【目的】 遠紫外線(エキシマーレーザー等を含む)を光源として用いる露光領域において、感度及び解像度等の諸性能に優れたネガ型フォトレジスト組成物を提供する。【構成】 N-ヒドロキシイミド化合物のスルホン酸エステルの少なくとも1種を含有する光酸発生剤、アルカリ可溶性樹脂、架橋剤及びナフタレン骨格を有する化合物を含むことを特徴とするネガ型フォトレジスト組成物。

請求項（抜粋）：

N-ヒドロキシイミド化合物のスルホン酸エステルの少なくとも1種を含有する光酸発生剤、アルカリ可溶性樹脂、架橋剤及びナフタレン骨格を有する化合物を含むことを特徴とするネガ型フォトレジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F 7/038 504 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/029 ,  H01L 21/027