特許
J-GLOBAL ID：200903011070268229
X線発生装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-174601
公開番号（公開出願番号）：特開平8-037096
出願日： 1994年07月26日
公開日（公表日）： 1996年02月06日
要約：
【要約】【目的】 X線源から発生するX線の強度を大きく減少させることなく、標的部材やプラズマからの飛散粒子を効果的に減少させて、飛散粒子阻止用薄膜や清浄光学面などへの飛散粒子の付着、堆積を低減又は防止して、その結果、長時間安定して使用できるX線発生装置を提供すること。【構成】 排気系により減圧された真空容器V内の標的部材2に励起エネルギービーム1を照射してプラズマを形成させ、該プラズマからX線を取り出すX線発生装置において、前記真空容器V内へガスを供給するガス供給系9と、前記標的部材2及び/又は前記プラズマから放出される飛散粒子を遮蔽する遮蔽フィルター7,8と、該フィルター7,8の表面温度を前記ガスが凝縮する温度以下に冷却可能な冷却系5,6と、を設けたことを特徴とするX線発生装置。
請求項（抜粋）：
排気系により減圧された真空容器内の標的部材に励起エネルギービームを照射してプラズマを形成させ、該プラズマからX線を取り出すX線発生装置において、前記真空容器内へガスを供給するガス供給系と、前記標的部材及び/又は前記プラズマから放出される飛散粒子を遮蔽する遮蔽フィルターと、該フィルターの表面温度を前記ガスが凝縮する温度以下に冷却可能な冷却系と、を設けたことを特徴とするX線発生装置。
IPC (2件)：
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