特許
J-GLOBAL ID:200903011077974226

2-(2’-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール系化合物の合成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 石田 敬 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-169329
公開番号(公開出願番号):特開平9-048768
出願日: 1996年06月28日
公開日(公表日): 1997年02月18日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 2-(2’-ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール系化合物の新規な合成方法を提供する。【解決手段】 下記式(IV):で示される化合物上の少なくとも-XH基を、-X(PG)基〔PG基はH以外の基であり、続く閉環工程では除去されない〕の形成により保護し、保護形の化合物を生成させる保護工程と、上記化合物を還元剤と反応させて下記式(VI):〔式中、ZはH又は保護基である〕で示される化合物を生成させる閉環工程と、上記の化合物を、PGをHで置換し且つZがHでない場合にはZもHで置換することにより脱保護して、下記式(VII)の化合物を生成させる脱保護工程とを含む合成方法。〔式中、R1〜R7は、H、ハロゲン、シアノなど、XはO、S、NR8、R8はH、アルキルなどを示す〕
請求項(抜粋):
下式(VII):【化1】〔上式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 及びR7 は、各々独立に、H、ハロゲン、シアノ、-CO2 Y(但し、YはH又は炭素原子数1〜12個のアルキル若しくは炭素原子数6〜12個のアリール基である)、炭素原子数1〜12個のカルバモイル基、炭素原子数0〜12個のスルホキシド基、炭素原子数0〜12個のスルホニル基、炭素原子数0〜12個のスルホナト基、炭素原子数0〜12個のスルホンアミド基、炭素原子数1〜18個のアルキル基、炭素原子数1〜18個のアルコキシ基、炭素原子数6〜20個のアリール基、O、N若しくはSから選ばれた異種原子1〜4個を含む原子数5〜20個のヘテロアリール基、又は炭素原子数6〜20個のアリールオキシ基であるか、或いはR1 〜R4 のうち隣接しているいずれか2個以上の基が、又は互いに隣接している場合のR6 とR7 若しくはR6 とR5 が、一緒になって炭素原子数1〜10個の脂環式基を形成するか、又はそれらが結合しているベンゼン環の炭素原子と一緒になって炭素原子数6〜20個の芳香族基又はO、N若しくはSから選ばれた異種原子1〜4個を含む原子数5〜20個のヘテロアリール基を完成することができ、或いはR7 はOHであり、XはO、S又はNR8 であるが、但しR8 はH、炭素原子数1〜12個のアルキル若しくはアリール基、又はO、N若しくはSから選ばれた異種原子1〜4個を含む原子数5〜20個のヘテロアリール基である〕で示される化合物の合成方法であって、下式(IV):【化2】〔上式中、R1 〜R7 及びXは前記式(VII)で定義した通り〕で示される化合物上の少なくとも-XH基を、-X(PG)基〔ここで、PG基はH以外の基であって、続く閉環工程では除去されない〕の形成により保護して、保護形の式(IV)の化合物を生成させる保護工程と、前記保護形の式(IV)の化合物を還元剤と反応させて下式(VI):【化3】〔上式中、ZはH又は保護基である〕で示される化合物を生成させる閉環工程と、前記式(VI)の化合物を、PGをHで置換し且つZがHでない場合にはZもHで置換することにより脱保護して、前記式(VII)の化合物を生成させる脱保護工程とを含む合成方法。

前のページに戻る