特許
J-GLOBAL ID:200903011095390932
有機EL素子の製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
鈴木 章夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平9-324088
公開番号(公開出願番号):特開平11-162639
出願日: 1997年11月26日
公開日(公表日): 1999年06月18日
要約:
【要約】 (修正有)【課題】 電極間ショートの発生を防止した高歩留まりの有機EL(エレクトロ・ルミネッセンス)素子の製造方法を提供する。【解決手段】 透明基板1の表面に一方向に向けて複数本の第1の透明電極(陽極)2を形成する工程と、前記第1の透明電極2上にこれと直交する方向に複数本の絶縁性の隔壁3を形成する工程と、前記隔壁3上に有機層4及び第2の電極(陰極)5,6を形成する工程と、前記基板1上に封止ガラスキャップ7を接着して内部を真空状態とする工程と、前記封止ガラスキャップ7の外側からレーザ光9を前記隔壁3上へ照射し、前記第2の電極5,6を分離する工程を含んでいる。第2電極を分離するためのレーザの照射時に、封止ガラスキャップにより内部を真空状態としているため、第2電極のショートが防止できる。
請求項(抜粋):
透明基板の表面上に一方向に延長された複数本の透明な第1電極を形成する工程と、前記第1電極上にこれと直交する方向に延長された複数本の絶縁性の隔壁を形成する工程と、前記隔壁上に正孔輸送層、発光層、電子輸送層の有機屠を形成し、かつその上の第2電極を形成する工程と、前記透明基板上に前記第1電極、隔壁、有機層、第2電極を覆う封止ガラスキャップを接着し、かつこの封止ガラスキャップの内部を真空状態にする工程と、前記封止ガラスキャップの外部からレーザ光を前記隔壁上に照射して前記第2電極、有機層を溶断して分離する工程とを含むことを特徴とする有機EL素子の製造方法。
IPC (3件):
H05B 33/10
, H05B 33/14
, H05B 33/26
FI (3件):
H05B 33/10
, H05B 33/14 A
, H05B 33/26
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