特許
J-GLOBAL ID：200903011109658658
磁気記録媒体の評価方法および磁気記録媒体の製造方法ならびに磁気記録媒体の製造装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-091669
公開番号（公開出願番号）：特開平11-296847
出願日： 1998年04月03日
公開日（公表日）： 1999年10月29日
要約：
【要約】【課題】 保護膜の膜特性を磁気記録媒体上に形成された状態で、簡便に、精度良く評価できる方法、およびこの評価方法を用いて保護膜を形成する磁気記録媒体の製造方法ならびに磁気記録媒体の製造装置の提供を課題とする。【解決手段】 非磁性支持体上に、磁性膜を形成する手段と、磁性膜上に例えばダイアモンドライクカーボン膜などの保護膜を形成する例えばRFプラズマCVD装置5を有し、RFプラズマCVD装置5内に、保護膜の屈折率または吸収係数のスペクトルを例えば波長域が190nm以上、900nm以下で測定するプローブ16などの手段を設ける。
請求項（抜粋）：
少なくとも、非磁性支持体と、前記非磁性支持体上に形成された磁性膜と、前記磁性膜上に形成された保護膜を有する磁気記録媒体の評価方法において、前記保護膜を形成した前記磁気記録媒体上で、前記保護膜の屈折率および吸収係数の少なくともいずれか一方のスペクトルを測定することにより、前記保護膜の膜特性を評価することを特徴とする磁気記録媒体の評価方法。
IPC (3件)：
G11B 5/84
, G01N 21/27
, G01N 21/41
G11B 5/84 C
, G01N 21/27 Z
, G01N 21/41 Z
