特許

J-GLOBAL ID：200903011113668692

レジスト薄膜形成装置およびレジスト薄膜形成方法

発明者： 木瀬 一夫 ,  尾崎 一人 ,  奥村 剛
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-085490
公開番号（公開出願番号）：特開平6-275509
出願日： 1993年03月18日
公開日（公表日）： 1994年09月30日
要約：

【要約】【目的】 基板上に均一な膜厚のレジスト薄膜を形成することができるレジスト薄膜形成装置およびレジスト薄膜形成方法を提供する。【構成】 レジスト塗布ユニット10と加熱ユニット20との間に待機ユニット30が設けられ、レジスト塗布ユニット10によってその表面にレジスト液が塗布された基板がカセット(待機位置)50に待機される。【効果】 カセット50に待機されている間に、レジスト液のレべリングと予備乾燥が行われて、均一な膜厚のレジスト薄膜を形成することができる。

請求項（抜粋）：

基板表面にレジスト液を塗布する塗布手段と、前記レジスト液が塗布された基板を加熱する加熱手段とを備え、前記基板表面にレジスト薄膜を形成するレジスト薄膜形成装置において、前記塗布手段と前記加熱手段との間で、前記塗布手段によってその表面にレジスト液が塗布された基板を待機位置に待機させた後、前記加熱手段に搬送する待機手段をさらに備えたレジスト薄膜形成装置。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/16 501

FI (2件)：

H01L 21/30 361 E ,  H01L 21/30 361 F

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開平1-209737
  
• 硬基板塗布・プリベ-ク装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-140966   出願人：富士写真フイルム株式会社