特許

J-GLOBAL ID：200903011119306326

気相成長装置およびその気相成長方法

発明者： 中津 弘志 ,  佐々木 和明
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (1件)： 山本 秀策
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-005345
公開番号（公開出願番号）：特開平6-216041
出願日： 1993年01月14日
公開日（公表日）： 1994年08月05日
要約：

【要約】【目的】 原料ガスを均一に再現よく光励起でき、または、成長基板上の成長状態をモニターすることができる気相成長方法および気相成長装置を提供する。【構成】 光励起型の気相成長装置において、光導入窓23にパージガスを導入する。パージガス導入ライン18および排気ライン19を、原料ガス導入配管4および排気配管14と別に設ける。排気ライン19における流量を導入ライン18における流量より少なくすることによって、光導入窓23に原料ガスが付着することがないので、安定して光を導入することができる。

請求項（抜粋）：

反応室内にセットされた基板上に気相成長膜を形成するための励起光、または気相成長膜を対象として測定するための測定光が、該当する光の光路上に設けられた1または2以上の光導入窓を介して該基板に照射される構成の気相成長装置において、室外から供給されたパージガスを、主として気相成長用の原料ガスが通流する領域近傍に存在する光導入窓に案内するパージガス導入手段と、該パージガス導入手段から流出して該光導入窓に案内されたパージガスを導入し、導入したパージガスをその排出量を制御しながら室外に排出するパージガス排出手段と、を備える気相成長装置。

IPC (2件)：

H01L 21/205 ,  C23C 16/44

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭63-254722
  
• 特開昭61-119028
  
• 特開昭63-224220
  
• 特開平4-014826