特許
J-GLOBAL ID:200903011124391668

高分子光学材料およびそれを用いた光導波路

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 谷 義一 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-034924
公開番号(公開出願番号):特開2000-230052
出願日: 1999年02月12日
公開日(公表日): 2000年08月22日
要約:
【要約】【課題】 広帯域の1.40-1.61μmにおいても低損失で、耐熱性、耐湿性が高く、かつ耐クラック性に優れた光学材料の提供【解決手段】 一般式(I)および(II)(式中R1 はフッ素化アルキル基である)を繰り返し単位とするものと、一般式(III)および(IV)(式中R2 はフッ素化アリールアルキル基である)を繰り返し単位とするものとの共重合体である高分子光学材料。【化5】
請求項(抜粋):
一般式(I)および(II)(式中R1 はフッ素化アルキル基である)を繰り返し単位とする重合体であることを特徴とする高分子光学材料。【化1】
IPC (2件):
C08G 77/16 ,  G02B 6/12
FI (2件):
C08G 77/16 ,  G02B 6/12 N
Fターム (17件):
2H047KA04 ,  2H047PA02 ,  2H047PA21 ,  2H047PA24 ,  2H047PA28 ,  2H047QA05 ,  2H047TA00 ,  4J035BA04 ,  4J035BA14 ,  4J035CA05U ,  4J035CA051 ,  4J035CA16N ,  4J035CA161 ,  4J035EA01 ,  4J035FB05 ,  4J035LA03 ,  4J035LB17

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